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> 技术详情
一种针对高频电路的单粒子瞬态效应注入仿真方法
编号:S000020385
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-23
浏览:
2498
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 陕西
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种针对高频电路的单粒子瞬态效应注入仿真方法通过建立被重离子入射的晶体管的器件模型、求解半导体器件数值计算模型方程以获取器件模型的I-V特性曲线、开展器件模型的I-V特性校准、对半导体器件数值计算模型添加重离子导致的单粒子效应物理模型、通过数值计算获取不同栅宽晶体管在不同重离子LET值和不同漏极偏置下的漏极瞬态电流随时间的变化曲线;根据变化曲线建立晶体管单粒子瞬态特性数据库、利用电路仿真程序的Verilog-A模块完成晶体管单粒子瞬态特性数据库与电路模型之间的数据交换等步骤实现单粒子瞬态效应注入,较好地改进了器件/电路混合仿真耗时长和收敛难的问题。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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