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> 技术详情
一种三维真空传感器及其制备方法
编号:S000020373
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-10
浏览:
2430
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供一种三维真空传感器及其制备方法,该方法制备的热电堆和加热器位于不同的平面上,热电堆位于加热器的下面,可以进一步实现热电型真空传感器的微型化;采用干法腐蚀释放结构,可以避免湿法腐蚀释放过程中存在的结构层与衬底黏连的问题,提高了器件的成品率;增加了硅盖板,即增加了盖板和加热器之间的气体热传导,有利于提高热传导真空计在较高气体压强端的灵敏度。此外,本发明中所采用的半导体衬底、热电堆和微加热器的材料、以及采用的制备工艺都是半导体工艺中常用的,可以很容易与现有CMOS工艺相兼容。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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