您当前的位置:首页 > 供应列表 > 技术详情
导电结构及其形成方法
编号:S000020315 刷新日期: 有效日期至:2020-10-07 浏览:2303 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明关于一种用于一半导体芯片的导电结构及其形成方法,半导体芯片包含一半导体基材、一衬垫、一保护层及一图案化绝缘层,图案化绝缘层设置于保护层上并局部且直接覆盖于衬垫的一第一开口上以使衬垫暴露出一第二开口,其中第一开口大于第二开口。导电结构包含一凸块下金属层及一导电凸块,凸块下金属层设置于图案化绝缘层所形成的第二开口内并与衬垫电性连接,导电凸块设置于凸块下金属层上并与凸块下金属层电性连接。其中,导电凸块的一上表面高于图案化绝缘层的一上表面,并且导电凸块位于第二开口内的区域是被凸块下金属层所包覆。
分享到:
联系方式
在线QQ: 点击这里
机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
China-Arab States Technology Transfer Center
相似供应