用户登录
用户注册
English
技术供应
>技术供应
>技术需求
>协作成员
>专家委员
>新闻资讯
首页
中心简介
新闻资讯
工作动态
行业资讯
特别关注
热点视频
技术供应
技术需求
协作成员
专家智库
专家咨询委员会
数字展会
成功案例
配套服务
下载中心
《中阿科技论坛》
您当前的位置:
首页
>
供应列表
> 技术详情
导电结构及其形成方法
编号:S000020315
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-07
浏览:
2303
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明关于一种用于一半导体芯片的导电结构及其形成方法,半导体芯片包含一半导体基材、一衬垫、一保护层及一图案化绝缘层,图案化绝缘层设置于保护层上并局部且直接覆盖于衬垫的一第一开口上以使衬垫暴露出一第二开口,其中第一开口大于第二开口。导电结构包含一凸块下金属层及一导电凸块,凸块下金属层设置于图案化绝缘层所形成的第二开口内并与衬垫电性连接,导电凸块设置于凸块下金属层上并与凸块下金属层电性连接。其中,导电凸块的一上表面高于图案化绝缘层的一上表面,并且导电凸块位于第二开口内的区域是被凸块下金属层所包覆。
分享到:
申请对接
收藏此供应
推荐给好友
穿越到手机
联系方式
在线QQ:
机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
查看地图
China-Arab States Technology Transfer Center
认证方式:
相似供应
一种五肽、多肽、环肽衍生物、化合物及其药物和应用
所在区域:中国
转让类型:
合作研发
中药制丸装置及其生产方法
所在区域:中国
转让类型:
科技服务
一种大黄酸胺基醇酯类化合物、其制备方法及医药用途
所在区域:中国
转让类型:
技术转让
一种用高效液相色谱法测定恩替卡韦片中全反式异构体的方法
所在区域:中国
转让类型:
技术转让