本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决阵列基板制造工艺复杂、透过率低的问题。本发明的阵列基板制备方法包括：在基底上通过使用阶梯曝光的构图工艺形成包括栅线、栅极、栅绝缘层、半导体层、像素电极的图形；其中，栅绝缘层不超出栅线和栅极的上方；在完成前述步骤的基底上形成隔离层，在隔离层中形成与半导体层相连的源极过孔和漏极过孔，以及与像素电极相连的第一过孔；在完成前述步骤的基底上通过构图工艺形成包括源极、漏极的图形；其中，源极、漏极分别通过源极过孔、漏极过孔与半导体层电连接，漏极通过第一过孔与像素电极电连接。