一种画素结构及其制作方法，其中画素结构包括基板、闸极线、资料线、半导体图案、非金属源极图案、非金属汲极图案以及画素电极。闸极线与资料线设置于基板上。半导体图案设置于闸极线，且半导体图案在垂直投影方向上与闸极线的两相对的边缘重叠。非金属源极图案与非金属汲极图案设置在半导体图案上。非金属源极图案与非金属汲极图案分别设置于闸极线的两相对的边缘上，且非金属源极图案部分设置于资料线与闸极线之间。画素电极与非金属汲极图案电性连结。另外，还提供了画素结构制作方法，该方法利用欧姆接触层于闸极线的两相对的边缘上分别形成非金属源极图案与汲极图案，借以减少非透明电极图案所占的区域，进而达到提升画素结构的开口率的目的。