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一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法
编号:S000020107 刷新日期: 有效日期至:2020-12-13 浏览:3236 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种薄膜晶体管阵列基板的制作方法,包括:提供一衬底基板;在衬底基板上形成金属薄膜,由构图工艺形成包括栅线的图形;在形成栅线图形的衬底基板上形成栅绝缘层、半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和数据金属层薄膜,由构图工艺形成包括图案化的栅绝缘层、位于栅绝缘层上的有源层、掺杂半导体层的图形,以及位于所述掺杂半导体层上的源电极、漏电极和数据线的图形;在形成源电极电极、漏电极和数据线的图形的衬底基板上形成钝化层;在形成钝化层的衬底基板上形成透明导电薄膜,由构图工艺形成包括像素电极的图形,像素电极通过贯穿钝化层的第一过孔与漏电极连接。本发明可以减少一次掩模板工艺,降低阵列基板的制作成本。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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