本发明涉及一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，一种形成金属配线的方法，用于金属氧化物半导体层的蚀刻液组合物，以及用于液晶显示器的阵列基板，尤其涉及一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，包括：a)在基板上形成栅极电极；b)在形成有栅极电极的基板上形成栅绝缘层；c)在栅绝缘层上形成由金属氧化物半导体构成的有源层；d)在由金属氧化物半导体构成的有源层上形成源极/漏极电极；以及e)形成与漏极电极相连接的像素电极，其中c)包括在栅绝缘层上形成金属氧化物半导体层，并使用蚀刻液组合物蚀刻金属氧化物半导体层，所述蚀刻液组合物包括过氧化氢、含氟化合物和水。本发明涉及一种使用所述蚀刻液组合物形成金属配线的方法，涉及所述蚀刻液组合物，以及涉及用于液晶显示器的阵列基板，所述阵列基板使用上述制造阵列基板的方法制造。