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> 技术详情
准垂直功率MOSFET及其形成方法
编号:S000019713
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-05
浏览:
2286
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
MOSFET包括半导体衬底,具有:顶面;第一导电类型的体区,位于所述半导体衬底中;以及双扩散区DDD区,具有低于体区的底面的顶面。DDD区为第二导电类型,第二导电类型与第一导电类型相反。MOSFET进一步包括:栅极氧化物,和通过栅极氧化物与体区隔离开的栅电极。栅极氧化物的一部分和栅电极的一部分低于体区的顶面。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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