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准垂直功率MOSFET及其形成方法
编号:S000019713 刷新日期: 有效日期至:2020-11-05 浏览:2068 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
MOSFET包括半导体衬底,具有:顶面;第一导电类型的体区,位于所述半导体衬底中;以及双扩散区DDD区,具有低于体区的底面的顶面。DDD区为第二导电类型,第二导电类型与第一导电类型相反。MOSFET进一步包括:栅极氧化物,和通过栅极氧化物与体区隔离开的栅电极。栅极氧化物的一部分和栅电极的一部分低于体区的顶面。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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