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薄膜晶体管阵列基板及其制造方法与退火炉
编号:S000019709 刷新日期: 有效日期至:2020-10-28 浏览:2468 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明揭露一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法与使用在其制造方法的退火炉。薄膜晶体管阵列基板包含基底、栅极层、绝缘层、氧化物半导体层、源极/漏极层、有机压克力系光阻、保护层以及导电层。栅极层是形成于基底上。绝缘层是形成于栅极层及基底上。氧化物半导体层形成于绝缘层上。源极/漏极层是形成于绝缘层及氧化物半导体层上,源极/漏极层形成有间隙,氧化物半导体层自间隙露出。有机压克力系光阻是覆盖于源极/漏极层上。保护层是形成于基底、氧化物半导体层及有机压克力系光阻上。导电层设置于保护层或有机压克力系光阻上且连接至源极/漏极层或栅极层。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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