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快恢复二极管及制作该二极管的方法
编号:S000019688 刷新日期: 有效日期至:2020-10-01 浏览:2109 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 广东 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种快恢复二极管,包括一N型高掺杂硅衬底、一第一N型掺杂半导体层、一第二N型掺杂半导体层、一二极管阳极层,所述第一N型掺杂半导体层位于第二N型掺杂半导体层和N型高掺杂硅衬底之间,所述第一N型掺杂半导体层的掺杂浓度低于第二N型掺杂半导体层的掺杂浓度。上述快恢复二极管可在反向恢复时能够提供足够的载流子浓度,从而得以维持电流下降的软度。本发明还提供了一种快恢复二极管的制作方法。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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