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具有准同轴电缆结构的隧穿晶体管及其形成方法
编号:S000019520 刷新日期: 有效日期至:2020-12-03 浏览:2076 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种具有准同轴电缆结构的隧穿晶体管及其形成方法,该隧穿晶体管包括:具有第一掺杂类型的半导体衬底,所述半导体衬底为源区或漏区;位于所述半导体衬底上方的具有第二掺杂类型的垂直半导体柱,所述半导体柱为漏区或源区;形成在所述半导体衬底上的沟道区,其中,所述沟道区的下端部位于所述半导体衬底上,所述半导体柱形成在所述沟道区的下端部上,所述沟道区的上端部环绕所述半导体柱侧壁;和形成在所述沟道区的下端部上、环绕所述沟道区的上端部侧壁的栅结构。根据本发明实施例的隧穿晶体管可以提高TFET器件的集成度,以及改善TFET器件的驱动能力。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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