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抗蚀剂图案改善材料、抗蚀剂图案形成方法、半导体装置及其制造方法
编号：S000019432
刷新日期：
有效日期至：
2020-12-09
浏览：
2458
次
对接邀请：
0
次
意向价格：
面议
所在区域：
中国 -
技术领域：
智能制造 - 装备制造业
转让类型：
合作研发
专利类型：
发明专利
技术成熟度：
可以量产
供应描述
本发明涉及抗蚀剂图案改善材料、抗蚀剂图案形成方法、半导体装置及其制造方法。本发明涉及的抗蚀剂图案改善材料包含水和由以下通式(1)表示的氯化苄烷铵，其中n是8～18的整数。通式(1)。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式：
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