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> 技术详情
一种p型Cu
x
S
y
半导体纳米晶、制备方法及其应用
编号:S000019414
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-16
浏览:
2270
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种p型Cu
x
S
y
半导体纳米晶、制备方法及其应用,属于纳米材料制备和应用领域。所述纳米晶Cu
x
S
y
的x/y=1.8,形状为球形,粒径为6~12nm;所述方法包括制备铜源、制备硫源、将铜源注入到硫源中加热反应得到胶体溶液,通过清洗和离心沉降得到所述纳米晶;所述纳米晶的晶相单一、分散性良好、尺寸和形貌可控,在整个近红外光区都有较强的吸收,吸收峰在1100-1500nm;且具有良好的导电性,较高的载流子迁移率、良好耐高温性和稳定性。所述方法产率高,可进行大规模的生产。将所述纳米晶应用于薄膜太阳能电池器件中的空穴传输层,可以显著提高空穴传输层的传输能力。
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