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能降低邻近字线或晶体管影响的半导体器件及其制作方法
编号:S000019184 刷新日期: 有效日期至:2020-10-07 浏览:2449 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供了一种能降低邻近字线影响的半导体器件,包括有:基底;第一字线,设置在基底中,及漏极/源极掺杂区,设置在第一字线两侧的基底中,其中第一字线具有第一栅极沟渠,设置在基底中;第一栅极电极,设置在第一栅极沟渠内;第一栅极介电层,设置在第一栅极电极和基底之间;及至少一个第一电荷捕捉层,邻近第一栅极电极。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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