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能降低邻近字线或晶体管影响的半导体器件及其制作方法
编号:S000019184
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-07
浏览:
2288
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了一种能降低邻近字线影响的半导体器件,包括有:基底;第一字线,设置在基底中,及漏极/源极掺杂区,设置在第一字线两侧的基底中,其中第一字线具有第一栅极沟渠,设置在基底中;第一栅极电极,设置在第一栅极沟渠内;第一栅极介电层,设置在第一栅极电极和基底之间;及至少一个第一电荷捕捉层,邻近第一栅极电极。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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