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半导体先进过程控制的参数优化控制方法
编号:S000019176 刷新日期: 有效日期至:2020-12-20 浏览:2280 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一个半导体先进过程控制(APC)的参数优化控制方法。在半导体工艺过程中,针对间歇过程的优化控制方法,传统方法一般采用线性预测模型。本发明采用基于遗传算法优化的BP神经网络预测模型,通过遗传算法对神经网络的初始权值和阈值进行优化,根据每个染色体所对应的适应度函数F,采用选择操作、概率交叉和变异操作等,并输出最优解,由此确定BP神经网络的最优初始权值和阈值,利用附加动量方法和变学习率学习算法提高BP神经网络的性能,使其经过训练后能很好的预测非线性模型。该方法中遗传算法具有很好的全局搜索能力,容易等到全局最优解,或性能很好的次优解,这对于提高神经网络的建模能力,有很好的促进作用。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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