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用于制造III族氮化物半导体发光器件的方法
编号:S000019094
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-20
浏览:
2499
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了呈现出改善的光提取性能的III族氮化物半导体发光器件。在制造方法中,在30kPa压力和1.5×10
20
/cm
3
的Mg浓度下通过MOCVD法在发光层上形成p-AlGaN的p覆盖层。在具有III族元素极性的晶体中形成具有氮极性的多个区域,从而p覆盖层在其表面上具有六角形柱状凹凸形状。随后,通过MOCVD方法在p覆盖层上沿着该凹凸形状以膜的形式形成GaN的p接触层。
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