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用于制造III族氮化物半导体发光器件的方法
编号:S000019094 刷新日期: 有效日期至:2020-10-20 浏览:2105 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供了呈现出改善的光提取性能的III族氮化物半导体发光器件。在制造方法中,在30kPa压力和1.5×1020/cm3的Mg浓度下通过MOCVD法在发光层上形成p-AlGaN的p覆盖层。在具有III族元素极性的晶体中形成具有氮极性的多个区域,从而p覆盖层在其表面上具有六角形柱状凹凸形状。随后,通过MOCVD方法在p覆盖层上沿着该凹凸形状以膜的形式形成GaN的p接触层。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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