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在半导体光学器件的端面上形成涂布膜的方法
编号:S000018977 刷新日期: 有效日期至:2020-11-20 浏览:2009 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种在半导体光学器件的端面上形成涂布膜的方法。该方法包括下述步骤:通过在基板的主表面上形成多层半导体结构来制备外延晶片;在多层半导体结构上形成条状电极和焊盘,条状电极的纵向沿着第一方向延伸并且条状电极沿着与第一方向垂直的第二方向排列,焊盘分别与条状电极电连接;在多层半导体结构上形成凸出部分;通过沿着第二方向切割外延晶片来形成激光二极管(LD)线阵;将LD线阵排列在支撑表面上以便LD线阵的侧表面朝向该支撑表面的法向,并且将间隔物设置在LD线阵之间;以及在LD线阵的侧表面上形成涂布膜。凸出部分与基板的主表面相距的高度大于条状电极的高度。此外,激光二极管线阵具有至少一个凸出部分。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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