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功率半导体二极管、IGBT及其制造方法
编号:S000018760 刷新日期: 有效日期至:2021-01-05 浏览:2461 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
提供了一种功率半导体二极管、IGBT及其制造方法。功率半导体二极管包括半导体衬底,该衬底具有第一导电型的第一发射极区域、第二导电型的第二发射极区域以及设置在第一发射极区域和第二发射极区域之间的第一导电型的漂移区。漂移区与第二发射极区域形成pn结。第一发射极金属化与第一发射极区域接触。第一发射极区域包括第一导电型的第一掺杂区域以及第一导电型的第二掺杂区域。第一掺杂区域与第一发射极金属化形成欧姆接触,并且第二掺杂区域与第一发射极金属化形成非欧姆接触。第二发射极金属化与第二发射极区域接触。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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