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半导体堆栈结构及其制法
编号:S000018712 刷新日期: 有效日期至:2020-12-28 浏览:2367 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种半导体堆栈结构及其制法,该半导体堆栈结构的制法通过将相堆栈的基板与晶圆进行切割制程,主要通过在切割处上先移除部分晶圆材质,以在该晶圆的芯片边缘形成应力集中处,再进行切割,使应力被迫集中在该晶圆的芯片边缘,而令该芯片的边缘翘曲。因此,可避免该应力延伸至该芯片的内部。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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