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半导体器件及其制造方法
编号:S000018605 刷新日期: 有效日期至:2020-10-01 浏览:2041 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
提出了一种具有静电放电(ESD)保护模块的半导体器件及其制造方法。根据本公开的实施例,所述ESD保护模块制作于半导体器件的源极金属和栅极金属之间,整体具有靠近所述源极金属一侧的第一部分和靠近所述栅极金属一侧的第二部分以及位于所述第一部分和所述第二部分之间的中间部分,所述ESD保护模块整体的厚度从所述中间部分分别向所述第一部分和所述第二部分降低,使所述ESD保护模块整体呈凸字状。该ESD保护模块的厚度在靠近栅极金属和源极金属侧降阶,有利于金属层到半导体器件的衬底以及到ESD保护模块之间的层间通孔在同一工艺步骤中形成。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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