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> 技术详情
互补型金属氧化物半导体管的形成方法
编号:S000018481
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-27
浏览:
2418
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种互补型金属氧化物半导体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有相邻的第一区域和第二区域;在所述半导体衬底的第一区域表面形成第一栅极结构;在所述半导体衬底的第二区域表面形成第二栅极结构;在所述半导体衬底、第一栅极结构和第二栅极结构表面形成第一应力氧化层、以及位于所述第一应力氧化层表面的第一应力氮化层,并进行第一次热退火;在第一次热退火后,去除第一应力氮化层,以及所述第一栅极结构和第二栅极结构顶部表面的第一应力氧化层;之后,在所述半导体衬底、第一栅极结构和第二栅极结构表面形成第三掩膜层,以形成应力层。所形成的半导体器件性能稳定。
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认证方式:
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