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半导体装置的制造方法
编号:S000018349 刷新日期: 有效日期至:2020-12-23 浏览:2569 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种可以在抑制工序数的增加的同时、防止半导体晶片所具有的低介电常数材料层的裂纹的半导体装置的制造方法。本发明的半导体装置的制造方法具备:在形成有低介电常数材料层的带有凸点的晶片上,将依次层叠支撑基材、粘合剂层和热固性树脂层而成的保护层形成用薄膜以热固性树脂层作为贴合面贴合的工序;将支撑基材和粘合剂层从热固性树脂层上剥离的工序;加热热固性树脂层而使之固化,形成保护层的工序;以及;将带有凸点的晶片与保护层一起切片的工序。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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