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> 技术详情
金属氧化物半导体晶体管的制作方法
编号:S000018222
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-23
浏览:
2191
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了一种金属氧化物半导体晶体管的制作方法,在源/漏层与沟道之间形成第二侧壁层,且在半导体衬底表面和源漏层之间形成空气埋层。在确保减小漏耗尽层扩展导致的漏电流的基础上,减小源漏寄生电容,并且减小了热预算。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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