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金属氧化物半导体晶体管的制作方法
编号:S000018222 刷新日期: 有效日期至:2020-10-23 浏览:2243 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供了一种金属氧化物半导体晶体管的制作方法,在源/漏层与沟道之间形成第二侧壁层,且在半导体衬底表面和源漏层之间形成空气埋层。在确保减小漏耗尽层扩展导致的漏电流的基础上,减小源漏寄生电容,并且减小了热预算。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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