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半导体器件、半导体晶片及半导体器件的制造方法
编号:S000018221 刷新日期: 有效日期至:2020-11-09 浏览:2232 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种半导体器件,包括:布线层,形成在半导体晶片上方;通路层,位于所述布线层之间;导电薄膜,位于所述布线层中;以及通路塞,位于所述通路层中,连接位于上方和下方的布线层的导电薄膜;划片区,沿所述半导体衬底的边缘位于芯片区的外缘且包括位于所述边缘附近的焊盘区,在平面图中,所述焊盘区与所述多个布线层的导电薄膜重叠,所述多个布线层包括第一和第二布线层,在平面图中,所述第一布线层的导电薄膜包括形成在所述焊盘区的整个表面上方的第一导电图案,以及在平面图中,所述第二布线层的导电薄膜包括形成在一部分所述焊盘区中的第二导电图案。本发明能够在半导体衬底中抑制裂纹的形成。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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