等离子增强化学气相沉积装置，涉及化学气相沉积装置。设有沉积薄膜的PECVD装置和为沉积薄膜提供超高频振动能量的超高频激振装置；所述沉积薄膜的PECVD装置设有气体输送控制装置、射频电源、上盖、喷射支持部、气体分配板、夹具、收集板、加热器、控制阀、机械泵、分子泵、排气管路、测温传感器、密封圈、激振梁、反应室、测压传感器、进气管路、压力控制器和温度控制器；所述气体输送控制装置设有气体存储室、安装开关、流量阀、气体混合室、开关、流量阀和气体输出管路；超高频激振装置安装于激振梁的端部，输出杆与连接环焊接在一起，连接环与激振梁螺栓连接。实现薄膜应力在线消除和低应力薄膜的快速沉积制造。