本发明属于光动力药物或光敏剂制备领域，公开了含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物的应用，可用于制备光动力药物或光敏药剂，本发明所述酞菁金属配合物具有以下特点：两亲性,吸收光谱红移至更加有利于穿透人体组织的波长处，光敏产生活性氧的能力高。