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仙客来植株愈伤组织和芽的培养基及培养方法
编号:S000005003 刷新日期: 有效日期至:2020-12-10 浏览:3111 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 湖北 技术领域:医疗卫生 - 生物医药
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供了一种诱导仙客来叶片形成愈伤组织和芽的培养基及培养方法,通过“二步法”高效诱导仙客来愈伤组织和芽的形成,有效抑制外植体褐化。首先,外植体叶片采取前,将仙客来植株遮光处理24~26小时,随后离体低温(20℃~22℃)黑暗培养,有效解决了褐化问题;其次,通过低温黑暗培养,诱导愈伤组织,30~40天后提高培养温度至25℃~28℃,光照培养诱导成芽;最后,芽形成15~20天后诱导生根。该技术体系能有效抑制褐化,繁殖系数高,并能保存F1代的原有性状和杂种优势,为仙客来种苗的工厂化生产提供关键技术支撑。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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