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一种低温制备六方相ZnS薄膜的工艺方法
编号:S000033563 刷新日期: 有效日期至:2020-10-14 浏览:2416 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 江苏 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种低温制备六方相ZnS薄膜的工艺方法。利用CdS六方相结构的特点,通过在蓝宝石衬底上先沉积CdS薄膜层,利用CdS作为缓冲层有效地解决了ZnS薄膜与衬底之间的晶格失配问题,利用此方法在低温下诱导六方相ZnS薄膜的生长,制备出六方相ZnS薄膜。该技术解决了在低温下用传统化学方法难以制备六方相ZnS薄膜的问题。本工艺方法制备的ZnS/CdS交替薄膜层相互之间以及底层与蓝宝石衬底之间粘合致密,且薄膜结晶质量高,均匀性好,透光率可达85%以上,可以作为太阳能薄膜电池的缓冲层或窗口材料;同时本产品在500nm处有很强的发光峰,也可用于研制高亮的绿光发光器件。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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