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基于竖直微气孔的Si与GaInAs低温键合方法
编号:S000033537 刷新日期: 有效日期至:2020-11-02 浏览:2434 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种基于竖直微气孔的Si与GaInAs低温键合方法,包括将Si衬底和GaInAs外延片经抛光、在400℃以下键合成一体的制备过程,其特点是:所述Si衬底键合的面上制备出竖直微气孔阵列。本发明由于在Si衬底的键合面上制备了竖直微气孔阵列作为通道,Si衬底与GaInAs外延片低温键合时,出现的微孔洞、微气泡随着键合时的压力进入作为通道的竖直微气孔中,避免了Si衬底与GaInAs外延片低温键合时接触面之间出现的微孔洞、微气泡,有效提高了太阳电池的性能。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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