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> 技术详情
基于竖直微气孔的Si与GaInAs低温键合方法
编号:S000033537
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-02
浏览:
2434
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及一种基于竖直微气孔的Si与GaInAs低温键合方法,包括将Si衬底和GaInAs外延片经抛光、在400℃以下键合成一体的制备过程,其特点是:所述Si衬底键合的面上制备出竖直微气孔阵列。本发明由于在Si衬底的键合面上制备了竖直微气孔阵列作为通道,Si衬底与GaInAs外延片低温键合时,出现的微孔洞、微气泡随着键合时的压力进入作为通道的竖直微气孔中,避免了Si衬底与GaInAs外延片低温键合时接触面之间出现的微孔洞、微气泡,有效提高了太阳电池的性能。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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