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> 技术详情
一种多晶硅薄膜的制备方法
编号:S000033458
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-04
浏览:
2451
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:
技术转让
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种低成本高效多晶硅基薄膜的制备方法,属于晶硅薄膜太阳能电池领域。其工艺流程包括薄膜沉积和固相晶化两部分。首先,采用等离子增强型化学气相沉积法,在玻璃衬底上生长500-2000nm的前驱体硅基薄膜,通过调节反应气体中硅烷与氢气的比例,在薄膜内部引入不同含量的结晶成分;随后,将薄膜样品在500-600℃下退火处理4-12小时,薄膜内的非晶成分逐渐晶化,最终得到结晶性良好的多晶硅薄膜材料。本发明中,由于在前驱体硅基薄膜内引入结晶成分,固相晶化过程中不需要形核,有效降低了薄膜的晶化温度,缩短了晶化所需时间。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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