本发明是一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺，组合式光谱选择性吸收膜层由内至外由红外反射层、吸收层和减反层依次叠合组成；它采用磁控溅射方法得到红外反射层和吸收层，采用空心阴极气流溅射方法得到减反层。本发明工艺充分利用了磁控溅射方法制备的红外反射层、吸收层金属纯度高，且能够充分发挥磁控溅射法能够精确控制膜层中的金属含量和膜层厚度的优点，从而得到具有高吸收比，低发射比的太阳光谱选择性吸收膜层。利用气流反应溅射制备的金属化合物纯度高、致密、沉积速率快的优点，提高整个光谱选择性吸收膜层的抗氧化性、耐腐蚀性和耐高温性能。本发明工艺沉积效率高、沉积速率快、膜层结合牢靠、膜层性能大幅度提高的优点。