本发明提供一种太阳电池用溅射靶，其特征在于，其是通过利用铟－锡或者铟－镓合金制的接合材料来对靶材和背板进行接合而被形成的，所述靶材是通过对铟制的铸块实施施加物理应力的加工，以使该铸块的厚度成为原来的厚度的70％以下而得到的。对于本发明的太阳电池用溅射靶，溅射初始的溅射速率较高，且溅射速率的经时性降低较小、而且能够形成均质的铟膜。也就是说，可以期待直到寿命结束为止能够以高速率形成均质的膜。