本发明所公开的是一种中高温太阳能选择性吸收镀层的膜系结构的制备方法，所述膜系结构，是在基底一表面依次有离子刻蚀层，铝红外反射膜层，氮化钛热扩散阻挡膜层，高金属含量的氮氧化钛吸收膜层，低金属含量的氮氧化钛吸收膜层，四氮化三硅减反射膜层和二氧化硅减反射膜层；其制备方法是，以其首先是金属铜基底的表面刻蚀处理，和依次镀制铝红外反射膜层、氮化钛热扩散阻挡膜层、高金属含量的氮氧化钛吸收膜层、低金属含量的氮氧化钛吸收膜层、四氮化三硅减反射膜层和二氧化硅减反射膜层为主要特征；具有制备方法简单易控，制品质量好，适宜大工业化生产等特点。