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一种含复合DBR的Ge基GaAs薄膜单结太阳能电池及其制备方法
编号:S000030848 刷新日期: 有效日期至:2020-10-12 浏览:2462 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 山东 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种含复合DBR的Ge基GaAs薄膜单结太阳能电池及其制备方法,该太阳能电池的外延结构依次包括Ge衬底、GaAs缓冲层,AlGaAs/AlAs?DBR,AlInP/AlGaInP?DBR,AlGaAs背场层,GaAs?n-基层,GaAs发射层,AlGaAs窗口层,GaAs电极接触层;其中,AlGaAs/AlAs?DBR依次是可反射600nm、650nm、700nm三个波段光谱的反射层构成的复合结构,采用MOCVD法制得。本发明使用半导体GaAs薄膜材料生长代替常规的单晶硅、多晶硅太阳能电池,转换效率达25%,显著提高了GaAs薄膜单结太阳能电池转化效率。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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