本发明公开了四氟化硅气体中杂质碘的净化方法，包括：①收集湿法处理磷矿石过程中产生的含氟气体，并将此气体引入一加有硫酸和二氧化硅的反应器中，使其中的HF转化为SiF₄气体； 或将氟硅酸与浓硫酸混合加热，将产生的气态化合物引入一装有浓硫酸的容器中，除去杂质，得到SiF₄气体；②将得到的气体引入净化槽，用浓硫酸或浓硫酸与氢氟酸的混合物除去气体中的水分和含氧氟硅化物；③SiF₄气体依次进入装有预先干燥过的活性炭、硅藻土的过滤器中过滤其中杂质；④将净化的SiF₄气体引入冷冻装置，冷冻除去HI及I₂。本方法利用磷肥工业副产物氟硅酸分解生产高纯度四氟化硅，为电子、光伏、光纤行业提供生产硅系列产品的高纯原料。