本发明提供了一种在玻璃、金属和硅晶体等光学元器件基片上镀制高附着力红外金属反射膜及其制备方法。本发明的高附着力红外金属反射膜包括基片，其特征是在基片上依次蒸镀有第一过渡层、咬合粘接层、金属层、应力匹配层、介质增强保护层和硬质耐磨层。本发明的典型特点是膜层附着力良好、反射率高、耐磨擦、环境适应性强，并具备较高的抗激光损伤阈值水平，可广泛应用于红外激光器、折反式光学系统、激光/红外共通道光电装备等军民用光电子技术领域。