本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置，涉及测量技术领域，用于测量带有工艺的硅片的高度形貌，该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时，自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱，相应调整光源的频率和带宽，以及探测器的响应范围，使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时，工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜，保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内，达到调焦调平的目的。