一种在基片上形成AZO膜的装置，其特征在于：包括一真空反应系统，包括一真空反应腔；一放电系统，设于真空反应腔内，包括两平行设置的电极板，用以产生等离子体；一电源系统，与所述电极板连接并为电极板供电；一加热温控系统，包括反应源加热台以及衬底加热台；一气体导入系统，与真空反应腔连接并向真空反应腔内导入载气，该载气用以将升华成气态的反应源物质导至设于衬底加热台上的基片表面；一压力测量系统，用以测量真空反应腔内的气体压力变化；以及一抽气系统，与真空反应腔连接并抽吸反应尾气。本发明可在基片上形成厚薄均匀的AZO膜层。