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一种非极性p-NiO/n-ZnO异质结构及其制备方法
编号:S000022788 刷新日期: 有效日期至:2020-10-10 浏览:2385 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 浙江 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开的非极性取向的p-NiO/n-ZnO异质结构包括衬底和生长在衬底上的非极性取向的pn结,所述的衬底为m面蓝宝石,pn结是自下而上依次生长在衬底上的(100)取向的n型ZnO薄膜和(100)取向的p型NiO薄膜构成的异质pn结。其制备方法如下:首先采用分子束外延法或者脉冲激光沉积法在m面蓝宝石衬底上制备(100)取向的n型ZnO薄膜;然后采用脉冲激光沉积法在ZnO薄膜上制备(100)取向的p-NiO薄膜。本发明的非极性取向p-NiO/n-ZnO异质结构无内建电场存在,有利于提高ZnO基光电器件的发光效率,可广泛应用于紫外探测器、发光二极管和气敏传感器等领域。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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