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成像装置和成像方法
编号:S000022646 刷新日期: 有效日期至:2021-01-04 浏览:2233 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及成像装置以及成像方法,其目的在于在无需加宽曝光控制电路和中央处理器之间的通信带域的情况下,尽可能减小曝光装置的光量分布不均所引起的画质下降。本发明的成像装置构成为,具备发光二极管头,该发光二极管的光量补偿数据被送往曝光控制部,补偿该发光二极管头的光量,而且还包括:优先度决定单元(321),用于根据预定的分割方式来分割光量补偿数据,并在分割后的光量补偿数据之间设定送信优先度;以及,送信及打印控制单元(322),根据该决定的送信优先度,按顺序依次向曝光控制部发送经过分割的光量补偿数据,而且以检测到成像开始时刻为条件,中断该光量补偿数据的发送,并开始实行成像。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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