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一种具有DBR高反射结构的紫外发光二极管及其制备方法
编号:S000022270 刷新日期: 有效日期至:2020-11-02 浏览:2454 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种AlGaN基DBR高反射紫外发光二极管及制作方法。该紫外发光二极管依次包括:衬底、AlN成核层、n型AlGaN势垒层、有源区、p型AlGaN势垒层和p型GaN冒层;其中,所述p型AlGaN势垒层上制作有DBR高反射结构。本发明提出的紫外发光二极管中被p型GaN冒层吸收的光线经过所述DBR高反射结构反射后,由底部发出,极大的提高了出射光的功率和效率。本发明提出的上述其外发光二极管器件及其制作方法工艺简单,重复性好,可靠性高,可用于空气/水净化,医疗,生物医学,白光照明以及空间通信等领域。
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