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> 技术详情
发光二极管外延生长方法
编号:S000022181
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-27
浏览:
2302
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 安徽
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供一种发光二极管外延生长方法。该方法包括:在衬底上,从下至上依次生长缓冲层、非掺杂层、N型掺杂层、量子阱发光层和P型掺杂层,所述非掺杂层采用退火方式进行生长。本发明提供的发光二极管外延生长方法,利用退火方式交替生长非掺杂层,可以有效地改善衬底在高温下的翘曲度,提高衬底底部温度的均匀性,进而提高波长分布的均匀性和LED的质量。另外,还可以在一定程度上降低测试和分选成本。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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