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发光二极管外延生长方法
编号:S000022181 刷新日期: 有效日期至:2020-11-27 浏览:1834 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 安徽 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种发光二极管外延生长方法。该方法包括:在衬底上,从下至上依次生长缓冲层、非掺杂层、N型掺杂层、量子阱发光层和P型掺杂层,所述非掺杂层采用退火方式进行生长。本发明提供的发光二极管外延生长方法,利用退火方式交替生长非掺杂层,可以有效地改善衬底在高温下的翘曲度,提高衬底底部温度的均匀性,进而提高波长分布的均匀性和LED的质量。另外,还可以在一定程度上降低测试和分选成本。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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