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> 技术详情
提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法
编号:S000021816
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-21
浏览:
2417
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法。本发明涉及互补金属氧化物半导体(CMOS)固态图像传感器。为保证扩展的满阱容量可以全耗尽,使得该扩展是不以损耗图像拖尾性能为前提的,并从根本上提升动态范围、信噪比、灵敏度等像素单元关键性能指标,为达到上述目的,本发明采取的技术方案是,提高图像传感器满阱容量与量子效率光电二极管及方法,结构为:在P型外延层内注入一个深度较浅的N埋层,N埋层上面是高浓度掺杂P+钳位层,N埋层下面还设置有第二个N埋层,第二个N埋层内自其与P型外延层交界面处向N埋层内部,形成有纵向的P插入层结构。本发明主要应用于图像传感器的设计制造。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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