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> 技术详情
校正光学邻近校正模型的方法
编号:S000021773
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-09
浏览:
2256
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种校正光学邻近校正模型的方法,包括:提供具有图形的半导体衬底;对图形进行数据采样,获得采样数据;将采样数据分成第一组数据和第二组数据;利用第一组数据校正待校正的光学邻近校正模型,获得校正的光学邻近校正模型;利用校正的光学邻近校正模型获得模拟图形,对模拟图形进行数据采样获得模拟数据,与第一组数据对应的模拟数据与第一组数据之间的误差小于预定值;判断第二组数据对应的模拟数据与第二组数据之间的误差是否小于预定值;如果判断结果为是,将校正的光学邻近校正模型作为校正好的光学邻近校正模型;如果判断结果为否,重新校正待校正的光学邻近校正模型。本技术方案对待校正光学邻近校正模型进行校正耗费的时间相对很短。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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