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一种基于CVD法合成的单根纳米线热导率的测量方法
编号:S000021742 刷新日期: 有效日期至:2020-09-29 浏览:3309 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 湖南 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种基于CVD法合成的单根半导体纳米线热导率的测量方法;属于材料导热性能测量技术领域。本发明取一根采用CVD法于T1温度下沉积得到的纳米线,将所取纳米线一端固定在碳导电胶上,另一端悬空,悬空部分长度为8-12微米;然后,用垂直于纳米线轴线的聚焦激光束加热悬空端的端部,然后增加聚焦激光束的净输出功率,至悬空端的端部熔融时,停止加热,同时,记录此时聚焦激光束的净输出功率p,然后通过扫描电镜精确测得悬空部分L的长度和直径D;再将所的数据换算成纳米线吸收的激光功率(Pabs),再根据一维方向上的傅里叶热传导方程:计算得出单根纳米线热导率K。本发明无需搭建电极,具有操作简单,成本较低等优势。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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