用户登录
用户注册
English
技术供应
>技术供应
>技术需求
>协作成员
>专家委员
>新闻资讯
首页
中心简介
新闻资讯
工作动态
行业资讯
特别关注
热点视频
技术供应
技术需求
协作成员
专家智库
专家咨询委员会
数字展会
成功案例
配套服务
下载中心
《中阿科技论坛》
您当前的位置:
首页
>
供应列表
> 技术详情
光刻胶的去除方法
编号:S000021572
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-17
浏览:
2716
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种光刻胶的去除方法,所述方法利用在去除光刻胶的过程中,当压强在特定压强范围内变动和/或电源功率在特定电源功率范围内变动时,边缘位置光刻胶的去除速率与中央位置光刻胶的去除速率之差会减小,使光刻胶的去除均匀性会有明显改变的原理,通过不断调整压强和/或电源功率来获得多个光刻胶的去除均匀性,获取最小光刻胶去除均匀性所对应的压强及电源功率,根据所获得的压强及电源功率来设置光刻胶的去除工艺条件,使得待形成电路图形的半导体器件上的光刻胶去除更为均匀。
分享到:
申请对接
收藏此供应
推荐给好友
穿越到手机
联系方式
在线QQ:
机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
查看地图
China-Arab States Technology Transfer Center
认证方式:
相似供应
具有反射电极的发光装置
所在区域:中国
转让类型:
技术转让
阵列基板的制作方法
所在区域:中国
转让类型:
合作研发
基于激光吸收光谱技术的二维重建光线分布优化方法
所在区域:中国
转让类型:
科技服务
一种微型不对称陶瓷电极塞
所在区域:中国
转让类型:
技术转让