光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了在形成光刻图案中有用的光致抗蚀剂组合物。本发明还提供了涂覆有所述光致抗蚀剂组合物的基板和形成光刻图案的方法。所述组合物、方法和涂覆的基板在半导体器件的制造中找到了特别的应用性。提供了光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：包括通式(I)、(II)和(III)单元的第一聚合物；包括以下通式(IV)和(V)单元的第二聚合物；和光酸产生剂。