本发明公开了一种离子均匀注入的宽带束扫描方法，属于半导体制造领域。离子均匀注入的带束扫描系统包括：计算机(实时系统)、运动控制器、直线电机、多线圈调节磁铁、多极调节磁极、移动法拉第、角度法拉第，离子均匀注入的带束扫描方法包括水平方向的离子带束均匀性及平行度校正和垂直方向的机械扫描，通过计算机(实时系统)对多线圈调节磁铁和多极调节磁极的协调控制以及采样法拉第和移动法拉第对束流的检测，实现运动控制器协调控制直线电机垂直方向的扫描速度，从而达到离子带束均匀注入晶圆的目的。本发明能够实现离子注入剂量的精确检测和剂量的均匀性控制。