本发明公开了一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法，具体为：在衬底表面沉积金属玻璃材料光刻胶层，按照目标纳米图案对沉积得到的样品进行曝光，曝光部分达到晶化温度发生相变，产生纳米晶化图形；对曝光后带有纳米晶化图形的样品进行刻蚀形成所需的纳米图案。本发明利用金属玻璃材料替代有机光刻胶，能够得到的样品光刻线宽远小于激光聚焦光斑衍射极限，并且成本低，刻蚀选择比大。本发明还公开了实现上述方法的系统，主要包括计算机、任意波形发生器、半导体激光器、准直扩束镜、光束隔离器、分光镜、聚焦伺服机构、聚焦镜头、X-Y-θ三维位移台和聚焦伺服控制箱。该系统构成简单、性价比高、操作简单、对操作环境要求相对宽松，产出率高。