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磁控溅射制备BaTiO3-Ni0.5Zn0.5
编号:S000021298 刷新日期: 有效日期至:2020-10-02 浏览:2460 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 浙江 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种射频磁控溅射制备BaTiO3-Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁电铁磁复合陶瓷薄膜及制备方法。先制备含有Ni-Zn-Fe-Ba-Ti源的溶胶前驱体,烘干、热处理后成型并烧结成靶材;然后利用磁控溅射法在ITO/玻璃基板上沉积膜层;在空气气氛下热处理制备得到两相复合陶瓷薄膜。其薄膜既具有铁电性,又具有铁磁性。本发明结合了磁控溅射法具有制备方便,薄膜性能稳定,工艺与传统半导体工艺兼容的优点,又利用溶胶凝胶方法可以达到相当高的均匀性的特点,综合控制在一个均匀系统中原位形成两相并保持了两相各自的铁电性和铁磁性。本发明可以在磁电传感器、四态存储器及抗电磁干扰(EMI)器件等微电子器件领域得到应用。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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